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一个模拟器的片状等离子体负离子源在国立菲律宾学院的

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资 源 简 介

This is a 3-dimensional simulation of the argon sputtering process to determine the yield of Ti and therefore determine amount of deposition of TiN in a substrate

文 件 列 表

spnis1
.classpath
.project
bin
src
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0.200114s